Пробоподготовка

Станок отрезной напольный Размеры рабочего пространства 250х650х550 мм Диаметр отрезного круга 432 мм Толщина отрезного круга 3 мм
Шлифовально-полировальная установка Ecomet Pro Buehler, США Количество одновременно изготавливаемых образцов - 12, диаметром 25 мм Автоматическая дозирующая система
Станок проволочно-вырезной электроискровой AD 325 L Максимальная масса заготовки 500 кг Осевые перемещения по координатам X х Y х Z 400х300х250 мм Размеры заготовки 600х470х240 мм
Напылительная установка Q150T ES Quorum Technilogies Ltd. (Великобритания) для подготовки образцов для исследования на РЭМ рабочая камера 150х127 мм предметный столик диаметром 60 мм максималный вакуум 5х10-5 мбар комплект мишеней (золото, серебро, медь, хром, вольфрам, углерод, кварц, стекло)
Станок полировальный  Gatan 656 Dimple Grinder  (США) для подготовки фольг для ПЭМ Контролируемое утонение центральной части образца размерами от 1 до 9 мм Начальная толщина до 2 мм, утонение до толщины в центральной части образца до 10 мкм (не более) Регулирование нагрузки на образец от 0 до 40 г.
Устройство ионного травления для подготовки образцов для ПЭМ Прецизионная ионная полировка двумя миниатюрными ионными пушками Энергия луча: от 1,5 кэВ до 6 кэВ Диаметр луча: 350 мкм на полувысоте при 5 кэВ - 800 мкм на полувысоте при 5 кэВ для широколучевых пушек Плотность тока: 10 мА /см2  пиковое Выравнивание луча: точное выравнивание луча с помощью флуоресцентного экрана Размер образца: 3 мм или 2,3 мм . Регулируется от 1 до 6 об/мин. Модуляция луча: одинарный или двойной сектор для исключительного поперечного сечения